光譜純石墨內坩堝材料特性與預處理要求

光譜純石墨內坩堝資料特性與預處理要求

純度與結構

有必要選用光譜純級石墨（純度≥99.99%），保證雜質含量低於ppm級，避免攪擾元素（如Fe、Cu、Ni等）對分析成果的影響。

石墨需具有高密度、低孔隙率結構，以減少高溫下氣體吸附與釋放，避免實驗過程中引入汙染。

預處理流程

清潔處理：運用前需經超聲清洗（去離子水+乙醇）去除外表加工殘留，再經高溫灼燒（1100℃，2小時）去除有機物與吸附雜質。

惰性氣氛維護：預處理及運用全程需在氬氣或氮氣維護下進行，避免氧化導致的結構劣化。

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